【光彈性法應力分析】

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【光彈性法應力分析】

 

photoelasticmethodofstressanalysis

 

【辭書名稱】力學名詞辭典

 

光彈性法是基於一些穿透性材料，尤其是塑膠材料的一種特性。

 

現考慮一模型(model)中的某些結構是用光彈材料作成的；

 

當此模型受到一應力作用之後，入射到此一光彈材料的光波將被分成兩部分，分別沿著兩主應力平面（即沒有剪應力的平面）前進。

 

光沿主應力平面的前進速度，會因應力的不同而有所差別。

 

入射光波將會分解成兩平行主應力方向上前進，但因為前進的速度不同，當光穿透光彈材料之後就會有新的相位關係，或是說會有相對延遲量。

 

此種現象被稱之為雙重折射或雙折射現象，在某些光學結晶材料(opticalcrystals)上也會有相同的現象；

 

但光彈材料的雙折射現象則是人為而非自然形成，會因材料中的每一點的應力或應變狀態而有所不同。

 

在光彈材料中被分解的兩道光波，彼此會相互干涉；

 

當此兩道光波的相對延遲量N為0,1,2,…等的週期時，則光波彼此會相互加強，而得到最大的光強度；

 

若相對的延遲量N為1/2,3/2,5/2,…等的週期時，則兩光波的振幅因為到處相等且方向相反，造成破壞性干涉，光強因此變為零；

 

介於最大與零之間的光強度與延遲量N有相對的關係。

 

當相對延遲量N=0的地方造成了亮場，當相對延遲量N=1/2的地方，造成了暗場，當相對延遲量N=1的地方則又成了亮場。

 

以光學干涉的術語而言，亮區或暗區被稱之干涉條紋，而延遲量N就被定義為干涉條紋的級數(order)。

 

 

轉自:http://edic.nict.gov.tw/cgi-bin/tudic/gsweb.cgi?o=ddictionary