【層析成像揭示了納米超晶格】
兩個角度對馬克 Boneschanscher
荷蘭的研究人員已經用於獲取圖像的納米超晶格的電子斷層成像。
這種新成像技術看起來系列建立，為研究人員提供這些技術重要材料的重要三維結構資訊的使用。
通常被稱為人工固體，納米超晶格的可以設計必須有一系列的電子、 光子和其他可取的物理屬性，可能有技術的應用。
然而，研究人員仍然缺乏正確的工具來正確圖像這些材料的三維結構。
如果沒有這種詳細的資訊，這些材料的基本物理性能不能完全理解。
現在，來自烏德勒支大學的一個小組已經用於電子斷層成像完全解析新納米晶固體，[PbSe]6[CdSe]19的結構。
這項技術涉及獲得 2D 圖像在透射電子顯微鏡 （TEM） 時旋轉樣品。
這種方式，在不同的角度下得到一系列的納米晶的 2D 傳輸圖像。
重建的 3D 圖像
團隊成員馬克 Boneschanscher 解釋了投影沿下它獲得的角度這傳輸資訊，我們可以重建從初始的 2D 圖像資料，3D 物件。
技術為我們提供了 3D 圖像包含的細節我們需要和我們然後可以使用電腦輔助圖像分析提取的納米晶在這個 3D 圖像內的格子座標。
電子斷層成像可以提供通常不容易接近的與傳統的透射電鏡，只產生一個物件 2D 傳輸圖像的資訊。
這意味著第三個層面 （或沿 Z 軸的透射電鏡的電子束） 有關的資訊是完全迷失了。
電子斷層成像，另一方面，允許全 3D 的表徵，Boneschanscher 解釋說。
局部缺陷
使用此三維資訊，我們可以觀察局部缺陷的納米晶結構 — — 即使這些不能在常規透射電鏡圖像中觀察到，他補充道。
事實上，我們是能夠顯示三個完全不同的透射電鏡圖像起源于同一個晶體結構： 沿 c 軸 ； 晶體透射圖像從一個平面的缺陷 ； 微晶傳輸圖像和傳輸圖像的晶粒長大與 c 軸的 TEM 網格 43 ° 的角度。
小組說，電子斷層成像和電腦輔助圖像分析可以設置一個新的先例，為研究納米晶和超晶格。
研究人員現在計畫承接更多量化及其納米晶固體瞭解納米晶與缺陷之間的更好如何量子機械耦合對影響這些材料的光電性能的深入研究。
Boneschanscher 說：電子層析成像技術作為一種工具來完全解決我們所掌握的這些超晶格的結構，我們現在將能夠理解結構和光電特性的更多細節，之間的聯繫。
我們都是目前本地電子的特性測量的其他使用掃描隧道顯微鏡的納米晶固體，並知道我們的一些同事正試圖連接到這些材料，目的是使他們真實設備的潛在客戶。
工作的更多細節可以發現在納米快報.
關於作者
百麗 Dumé 是nanotechweb.org的特約編輯
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