【氯已涵蓋的石墨烯】
兩全其美： 摻雜石墨烯與氯
在美國麻省理工學院的研究人員已開發不會犧牲太多 — — 其優秀的電子性質的 p 塗料石墨烯的新途徑的東西已證明是一項挑戰，直到現在。
由此產生的材料可以製造全石墨烯積體電路晶片、 射頻電晶體上的理想和納米電子電路互連，舉幾個例子。
石墨烯是平板的碳只有一個原子厚 — — 碳原子排列在蜂巢晶格。
因為材料在 2004 年首次分離出，其獨特的電子和機械屬性 — — 包括極高流動性和高強度 — — 有驚訝，研究人員說，它可以在宿主中的設備應用程式使用。
的確，石墨烯可能甚至取代矽作為電子材料的選擇在將來，一些人。
這是因為電子可以通過石墨烯表現像"狄拉克"粒子沒有大規模 — — 休息的屬性，可能會允許都比任何現有的今天快的電晶體的極高速度還不錯。
然而，與不同的半導體矽，石墨烯具有其價和傳導的頻帶之間沒有空白。
這種帶隙為電子應用至關重要，因為它允許的電子流中的材料要切換打開和關閉。
引入的一種方法到石墨烯的帶隙是化學塗料它，但這必須仔細做，以免破壞這種材料的獨特的電子特性。
基於等離子體表面修飾技術
蜜德莉 Dresselhaus和湯瑪斯 · 帕拉西奧斯率領一個團隊現在成功在 p 摻雜石墨烯與氯氣使用基於等離子體表面功能化技術。
與其他化學摻雜的方法相比，我們的方法的優勢是非常明顯的"說團隊成員徐張。
首先，氯離子摻雜石墨烯高電荷流動性約 1500年釐米2/Vs 之後放摻雜。
此值是令人印象深刻高與那些以前獲得與其他化學物種相比的。
氯氣也可以涵蓋超過 45%的表面的石墨烯樣本，他補充道。
研究人員稱，這是報告的任何石墨烯，直到現在，摻雜材料的最高表面覆蓋地區。
密度泛函理論預測達 1.2 eV 的帶隙可以開放在石墨烯中如果雙方的樣品氯化，如果每一側上的氯量占總樣本面積的 50%。
「 我們的工作中觀察到的單雙面氯化石墨烯的 45.3%覆蓋因此重要的是，鋪平了道路最終開放可觀帶隙材料中，同時保持流動性合理高張告訴physicsworld.com.
在他們的工作，研究人員研究了這兩個"脫落"石墨烯，使用化學蒸氣沉積 （CVD），獲得。
他們執行的氯等離子療法在髮卡電子迴旋共振反應離子機 (ECR/RIE) 中的氯氣體進入等離子狀態而興奮吸收能量從一個階段中在某一頻率的電磁場中。
通過應用直流偏置與樣品階段加速了氯等離子體。
解釋"我們仔細地優化的 ECR 電源和直流偏置控制反應條件，"張"和"在室溫下進行了試驗。
生產的 p 摻雜材料可用於使所有石墨烯積體電路晶片和無線電頻率的電晶體，他補充道。
也摻雜石墨烯與氯降低了其薄層電阻，使它適合在電子線路中的使用互連設備。
現在，團隊計畫塗料懸浮的樣品的石墨烯與氯 — — 訪問的示例 — — 雙方和如此開放更大的電子帶隙。
目前的工作是ACS Nano中詳細說明.
關於作者
貝爾 Dumé 是nanotechweb.org的特約編輯
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